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多晶硅過程氣體分析系統YGM-3200型

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更新時間：2024-09-10 14:29:01瀏覽次數：136次

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產品簡介

YGM-3200系統可連續監測工業硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護氣氮氣的氧含...

詳細介紹

多晶硅過程氣體分析,多晶硅過程氣體分析系統YGM-3200型
多晶硅過程氣體分析系統YGM-3200型
    YGM-3200系統可連續監測工業硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護氣氮氣的氧含量和微水含量，從而保證最后提煉超純硅的品質。
系統特點
1. 取樣系統為可插拔式探頭，方便更換濾芯
2. 過濾器可過粉塵和硅粉，過濾精度為0.3μm
3. 大屏幕現場就地顯示
4. 系統留有分析儀標定口，無須拆卸分析儀
5. 采用進口陶瓷阻抗式露點分析儀

技術參數
1) 型號：YGM-3200
2) 模擬輸出：4-20 mA輸出
3) 響應時間：T90<20s
4) 工作溫度：-20º~+60º
5) 電源：24 VDC
6) 防護等級：IP65
7) 系統部件：316L不銹鋼
8) 防爆標準：符合EEx ia IIC T4

微水分析儀：
a. 測量范圍：-100~+20º
b. 精度：+20~-60º 露點范圍內為±1º
c. -60~-100º 露點范圍內為±2º
d. 工作壓力：真空~40 MPa
e. 計量單位：PPmW,℃
f. 防爆標準：非現場顯示型符合EEx ia IIC T4
g. 現場顯示型符合EEXd IIB T4

氧含量分析儀：
h. 測量范圍：0/10/100PPm 1/10/25%
i. 精度：<1%FS
j. 計量單位：PPmW,%
k. 大氣壓力影響：大氣壓力影響：每變化1毫米汞柱讀數變化±0.13%
l. 防爆標準： NEC/CEC Class Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Division 1
                      GroupsA,B,C,D,E,F,G;
                      CENELEC Eex ia Ⅱ c T4(60℃)BASEEFA Ceet.Nos.
                      Ex96D2442 and Ex 96D2444

典型用戶
①　徐州中能
②　亞洲硅業
③　江蘇順大
④　江西賽維